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【株式会社タムラ製作所】高い透磁率の圧粉磁性体を開発
プレスリリース
2026年3月31日
株式会社タムラ製作所は、産学連携先端材料研究開発センターとの共同研究で、μr =1000という透磁率を飛躍的に高めた圧粉磁性体を開発し、トランスなどの磁気デバイスへ展開をはじめました。
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株式会社タムラ製作所は、産学連携先端材料研究開発センターとの共同研究で、μr =1000という透磁率を飛躍的に高めた圧粉磁性体を開発し、トランスなどの磁気デバイスへ展開をはじめました。
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