共用機器のご案内
Shared equipment
顕微可視赤外分光システム(FLIM)
物性解析システム 顕微可視赤外分光システム(FLIM)
東京インスツルメンツ(株)製 NX-FLIM-TO3
装置概要(目的)
非破壊、非接触による化合物半導体の組成評価、欠陥評価、量子井戸の評価、不純物評価、結晶性を評価する発光測定を行う装置
主な特徴及び用途
【特長】
- 顕微鏡を備え、微小領域の測定が可能。
- 時間分解発光測定用ストリークカメラ(1000-1650nm)と励起用レーザ(635nm)を用いて発光分光測定、ストリークカメラ使用した時間蛍光寿命測定を可能とする装置でかつ試料を冷却して測定が可能。
【用途】
- 化合物半導体の組成評価、欠陥評価、不純物評価、量子井戸評価
- CIGS太陽電池材料の評価
- 近赤外領域の蛍光寿命測定
主な仕様
顕微鏡 | |
---|---|
種類 | 正立型顕微鏡 |
対物レンズ | 20×(NA0.4/WD20mm) |
クリークカメラ | |
感度波長域 | 1000~1650nm |
光電面 | InP/InGaAs |
光電面冷却温度 | -80℃ |
最小時間分解能 | 20ps |
掃引時間 | 1ns~10ms@(全画面) |
顕微用クライオスタット | |
方式 | 液体Heフリー |
最低到達温度 | ≦10K |
ゴニオメータ部 | |
---|---|
照射電流安定度 | ±0.3 %h |
二次電子分解能 | 3nm(W.D. 11mm、30kV) |
分光器 | |
焦点距離 | 30cm |
同時測定波長範囲 | ≧400nm |
励起レーザー | |
波長 | 635nm |
パルス幅 | ≺50ps |
繰り返し周波数 | 40MHz |
装置写真
2013 © Material Solutions Center, Tohoku University. All rights.