共用機器のご案内
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電界放出型走査電子顕微鏡システム（FE-SEM)
構造解析システム（ナノ構造等） 電界放出型走査電子顕微鏡システム（FE-SEM)
日本電子㈱製 JSM-7800F
装置概要（目的）
細く絞られた電子線でサンプル表面を走査し、サンプルから発生した信号（二次電子、反射電子、X線）を用い、サンプル表面の形状・元素分布・結晶方位情報の取得を行う装置
主な特徴及び用途
【特長】
- スーパーハイブリッドレンズの照射系により、高い分解能観察と低加速観察、磁性材料も観察が可能。
- 電界放出型電子銃と開き角制御レンズを用い、小さい電子ビーム径で大電流の照射ができ、短時間でEDS,EBSD分析が可能。
- 観察試料の断面加工装置（クロスセクションポリッシャ）を同エリアに設置し使用可能。
【用途】
- 表面形状のイメージング（例：絶縁性サンプルの無蒸着かつ高分解能観察、低加速電圧観察でのサンプル最表面観察）
- 元素分布のイメージング
- 結晶方位分布のイメージング
- 大気非暴露下での観察（例：アルカリ金属、リチウムイオン電池、吸湿性を有する高反応性サンプルの観察）
主な仕様
| 分解能 | 0.8nm(15kV), 1.2nm(1kV), 3.0nm(15kV, WD10nm, 5nA) |
|---|---|
| 画像の種類 | 二次電子像、反射電子像 |
| 加速電圧 | 0.01ｋV～30kV |
| 照射電流量 | 数pA～500 nA |
| 倍率 | ×10～1,000,000 |
| 電子銃 | インレンズショットキー電界放出型 |
| 開き角制御レンズ | 組み込み |
| 対物レンズ | スーパーハイブリッドレンズ |
| 対物絞り | 4段、X、Y 微調整機能 |
| 自動機能 | フォーカス、非点補正、明るさ、コントラスト |
| レシピ | 標準観察条件、ユーザー観察条件 |
|---|---|
| 試料ステージ | ユーセントリック方式 |
| X | 70mm |
| Y | 50mm |
| WD(Z) | 2mm～40㎜ |
| 傾斜角度 | ‘-5～＋70° |
| 回転角度 | 360° |
| モーター駆動軸数 | 5軸 |
| 試料ホルダー寸法 | 12.5㎜径×10㎜H用、32㎜径×20㎜H用 |
| 試料交換 | 試料交換室 タイプ2（100㎜径×40㎜H） |
使用可能なオプション機能とオプションの目的
| 使用可能なオプション機能 | オプションの目的 |
|---|---|
| 使用可能なオプション機能：エネルギー分散形X線分析装置（EDS) | オプションの目的：元素分布イメージング |
| 使用可能なオプション機能：結晶方位分析装置（EBSD) | オプションの目的：結晶方位解析 |
| 使用可能なオプション機能：反射電子検出器（BED) | オプションの目的：簡易な元素分布イメージング、結晶粒観察 |
| 使用可能なオプション機能：上方二次電子検出器（USD) | オプションの目的：高分解能観察での2次電子イメージング |
| 使用可能なオプション機能：上方反射電子検出器（UED） | オプションの目的：高分解能観察での反射電子イメージング |
| 使用可能なオプション機能：ステージナビゲーションシステム（SNS) | オプションの目的：観察場所の位置情報表示 |
装置写真
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システム全体
大気非暴露機構
